- 名称
- 无掩模光刻机
- 型号
- Mk2
- 货号
- 待补充
- 系列
- 光刻机
- 品牌产地
- POLOS 荷兰
关联产品
-0.1 µm 重复性和 6" 平台行程
-0.8 微米分辨率
特点
- 20x/0.75 NA 尼康紫外校正物镜
- 用于样品观察和多层对准的外延照明
- 全高清 120 FPS CMOS 摄像机，用于实时和无延迟观察
- 光学器件内置闭环自动对焦功能
- 压电驱动 Z 轴，实现快速自动对焦
- 用于系统控制的单 USB 3.1 接口
规格
- 最小线宽：0.8 微米
- 平台双向重复性：0.1 微米
- 曝光波长：405 纳米
- 最大写入区域：400 微米
- 写入区域 155 * 155 毫米（兼容 6 英寸）
- 随附 BEAM Xplorer 软件
- 包括高性能笔记本电脑。
产品问答
咨询无掩模光刻机 Mk2时需要提供哪些信息？
请提供产品名称、型号 Mk2、使用场景、数量及交付地点，便于核对配置并提供询价信息。
无掩模光刻机 Mk2的技术参数和配置如何确认？
可先查看本页产品介绍、技术参数和资料下载内容。最终规格、配置及兼容性应结合POLOS的有效产品资料和具体应用要求确认。
无掩模光刻机 Mk2是否提供技术与售后支持？
武汉提沃克科技有限公司可依据产品品牌、供货范围和客户需求，提供产品选型、资料沟通、供货及相应的技术与售后服务。